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紧固件高速局部电镀工艺介绍
紧固件高速局部电镀工艺介绍
高速的局部电镀是运用特殊的设备把不需要电镀的部位遮盖起来,并使得镀液在镀层表面高速度流动,使用高的电流密度来进行电镀工艺。
此工艺的特点是镀速高,只在需要的镀层部位进行电沉积,从而可有效的提高生产效率和节约被镀金属,但这套设备成本较高。
目前,这种工艺主要用于电子元器件的高速局部镀贵金属。
(1)实现高速局部电镀的条件:
①要有合适的设备,要有与不同被镀零件相适应的电镀装置(特别是在连续局部电镀时)。这种装置要对零件非镀表面绝缘良好,不漏镀液,镀液在被镀面流动均匀,无死角,连续镀时,零件传送运行平稳。除此之外,还应有使镀液高速流动的循环过滤系统设备,包括过滤泵与流量计等。
②要选用高速电镀的工艺规范,为此一般选用主盐浓度高的镀液,有时还加入能提高镀速的添加剂,提高镀液温度,同时常采用脉冲电源。当然也可选用常规电镀规范,但镀速受到限制。
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